फर्नेस मोलिब्डेनम डिसिलिसाइड Mosi2 ताप तत्व रॉड Mosi2 हीटर Heat

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MoSi2 ताप तत्व का उपयोग ऑक्सीकरण वातावरण के तहत उच्च तापमान में किया जाता है।यह SiO2 फिल्म बनाएगा जो तत्व को पिघलने से बचा सकती है।जब तत्व का तापमान 1700°C से अधिक हो, MoSi2 ताप तत्व का उपयोग 400°C और 700°C के बीच के तापमान में लंबे समय तक नहीं किया जाना चाहिए;अन्यथा कम तापमान में मजबूत ऑक्सीकरण समारोह के तहत तत्व का अंतिम संस्कार किया जाएगा। इसका उपयोग हमेशा प्रयोगशाला या उद्योग के लिए उच्च तापमान भट्टियों, ओवन / भट्टों में किया जाता है।

उत्पाद का प्रदर्शन:

पैकिंग और शिपिंग:

सुरक्षित परिवहन सुनिश्चित करने के लिए अंदर भरे पॉलीफोम के साथ लकड़ी के बक्से।

पार्सल समुद्र के द्वारा, हवा से, एक्सप्रेस द्वारा, आदि ग्राहक के अनुरोध के अनुसार भेजा जा सकता है।